La méthode d'absorption de la couche et réaction ionique successifs est utilisé pour créer des films minces à partir d'une variété de différents substrats et de produire différents revêtements pour les applications, y compris les panneaux et les semi-conducteurs solaires. Le procédé SILAR est une méthode de solution de bain de produit chimique qui est une extension du bain chimique, la méthode de production de film mince similaire.
méthode
La méthode SILAR a été enregistré comme étant utilisé en 1985 dans un environnement de laboratoire, avec le nom SILAR d'abord utilisé dans des revues scientifiques de la même année, selon l'Académie indienne des sciences. Le procédé de production de couches minces connu sous le nom SILAR nécessite le film à être immergé dans les produits chimiques nécessaires à la création d'une solution chimique sur le substrat. Entre chaque immersion du film dans les produits chimiques, le film est rincé à l'aide d'eau purifiée pour créer le revêtement souhaité sur le film.
Matériaux
L'un des avantages du procédé de revêtement SILAR films minces est le nombre de différents matériaux qui peuvent être utilisés pour créer un film pour une application souhaitée. Les matériaux qui peuvent être utilisés dans le procédé comprennent des substrats sensibles à la température, tels que le polyester, car le procédé SILAR se termine à ou près de la température ambiante, ce qui signifie des dommages ne soient causés aux températures extrêmes d'autres méthodes de film mince. Des matériaux tels que les semi-conducteurs qui peuvent être endommagés dans d'autres méthodes peuvent être créés dans la méthode SILAR mince production cinématographique.
Production
La méthode SILAR est utilisée pour créer des revêtements sur des films minces pour les produits technologiques tels que les cellules photovoltaïques qui convertissent la lumière du soleil en énergie pour une utilisation dans les applications de l'énergie solaire. En permettant des films minces à enrober dans différents produits chimiques à ou près de la température ambiante, des films ou des films comportant des pièces métalliques peuvent utiliser la méthode SILAR et éviter d'éventuels problèmes avec les dommages causés par l'oxydation ou la corrosion métallique, l'Académie indienne de Sciences rapports. D'autres procédés de dépôt de couches minces utilisent le transfert d'atomes pour former un revêtement sur des films minces. Le procédé SILAR utilise le transfert d'ions qui fournit une meilleure couverture des produits chimiques sur le film, et peut aboutir à une structure de grain plus fine que d'autres méthodes de dépôt.
Avantages
Les principaux avantages de la méthode de dépôt SILAR comprennent la facilité de la réalisation du procédé et le coût relativement faible. Pour de petites quantités de substrats à traiter à l'aide du procédé SILAR, le procédé peut être réalisé en utilisant des béchers en verre. L'Indian Academy of Sciences indique la méthode SILAR ne nécessite pas les matériaux de haute qualité utilisés dans d'autres procédés de dépôt, tels que le dépôt en phase vapeur fermée. La facilité d'application permet à l'épaisseur de couches minces créée en utilisant la méthode SILAR à contrôler plus facilement que dans d'autres applications.